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  • 2023

    9-9

    超高真空镀膜设备是一种在较低压力下进行物质沉积的装置。它被广泛应用于电子、光学、材料科学和其他领域中,用于制备具有特殊性能的薄膜材料。设备的工作原理基于真空技术和物质沉积原理。通过抽取空气,将反应室内的气压降至非常低的水平,通常在10^-6到10^-9帕的范围内。在这个较低压力环境下,采用热蒸发、溅射、离子束等技术,将目标材料加热或激发,使其从固态转变为气态,并沉积在待加工物表面上。通过控制沉积速率、温度和反应气体等参数,可以得到所需的薄膜结构和性能。具有广泛的应用领域:在电...

  • 2023

    9-8

    粉末原子层沉积(Atomiclayerdeposition,ALD)设备是一种表面涂层技术,它通过将气相前驱体脉冲交替地暴露在靶材表面,以逐层的方式在基底表面沉积物质,从而制备出均匀、一致的涂层。粉末原子层沉积设备通常由以下几个主要部分组成:1.反应室(Reactor):这是设备的主要部分,是进行粉末原子层沉积反应的地方。反应室通常具有高真空密封性能,以防止气体泄漏和污染。2.供料系统(Feedsystem):供料系统负责将气相前驱体供应到反应室中。它通常包括一个或多个储罐,...

  • 2023

    9-3

    约瑟夫森结镀膜设备是一种常用于表面处理和镀膜工艺的设备。它基于约瑟夫森结的原理,使用超导材料和微纳技术制造而成。约瑟夫森结是由两个超导体之间嵌入一个非超导物质形成的微型电子元件。在低温下,通过施加适当的电压和电流,约瑟夫森结可以产生特殊的量子效应,如量子隧穿和量子干涉。这些效应使得约瑟夫森结成为一种非常敏感的探测器和调制器。约瑟夫森结镀膜设备利用这些特性来进行表面处理和镀膜工艺。它通常包括一个真空腔室和一系列的超导电极。在真空环境中,待处理的物体被放置在腔室中,并与超导电极相...

  • 2023

    8-21

    溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级,所以膜层的含气量要比蒸镀高。蒸镀不适用于高溶点材料,如钼,钨。因为溶点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。溅射不适用于低硬度材料,如非金属材料。溅射不适用于非导电材料。蒸镀不能控制厚度,而溅射可以用时间控制厚度。蒸镀不适应大规模的生产。蒸镀的电子动能比溅射小很多,虽然含气量少,但是膜层易脱落。溅射的膜均匀,蒸镀的膜中心点厚,四周薄。在国内蒸镀工艺比溅射工艺成熟。真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称...

  • 2023

    8-11

    等离子体原子层沉积是一种气相沉积技术,利用了等离子体的化学反应和表面反应来沉积薄膜。它通常由两个步骤组成:前驱体吸附和后处理。前驱体分子被引入反应室,并通过化学吸附与衬底表面发生反应,形成一个单层分子。一个等离子体源引入反应室,产生高能粒子,与已吸附的前驱体发生反应,释放出非挥发性产物并修饰表面。重复这两个步骤多次,可以逐渐增加薄膜的厚度和质量。等离子体原子层沉积具有许多优势。可以在低温下进行,适用于对温度敏感的衬底和器件。提供了较高的控制能力。由于每个沉积周期中只有单层分子...

  • 2023

    8-9

    主要功能具有热ALD沉积氧化物、氮化物、贵金属等薄膜材料的功能;具备未来等离子体增强ALD、Loadlock单元扩展功能。应用原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型(厚度、成份和结构)原子层沉积(AtomicLayerDeposition,ALD),最初称为原子层外延(AtomicLayerEpitaxy,ALE),也称为原子层化学气相沉积(AtomicLayerChemicalVaporDeposition,ALCVD)。原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少...

  • 2023

    8-4

    粉末原子层沉积是一种薄膜制备技术。与传统的原子层沉积(ALD)相比,利用粉末作为反应物源,实现了更高的生长速率和更大尺寸的薄膜覆盖面积。在过去的几年里,已经成为材料科学和工程领域的研究热点,并在微电子、能源存储、光电子等领域展示出巨大的潜力。粉末原子层沉积通过交替地引入气体与粉末进行表面反应,将它的概念扩展到固体颗粒上。先在基材表面形成一个导电或非导电的种子层,然后将粉末在该种子层上均匀地分布。接下来,通过向反应室中引入适当的气体,与粉末表面发生化学反应,使其在每个原子层上生...

  • 2023

    7-21

    真空蒸镀是将固体材料(简称蒸镀材料)在高真空环境中加热,沉积在特定基板上,得到薄膜的过程。真空蒸镀工艺主要用于微电子制造有源元件、器件触点和金属互连件、高精度低温度系数薄膜电阻器,以及薄膜电容器的绝缘介质和电极。真空蒸发镀膜通过真空蒸发工艺形成各种薄膜是集成电路制造的一项重要技术。可以通过真空蒸发沉积多种材料,例如导电材料、介电材料、磁性材料和半导体材料。影响薄膜质量的关键过程在真空蒸发过程中,系统的真空度直接影响薄膜的质量。为了将蒸发原子或分子沉积在离蒸发源一定距离的基板上...

  • 2023

    7-14

    桌面式原子层沉积系统是一种精密的薄膜制备设备,具有广泛的应用领域和重要的科学研究价值。桌面式原子层沉积系统是一种用于薄膜沉积的技术。它采用了原子层沉积(ALD)的工艺,在纳米尺度上控制薄膜的成分和厚度。该系统由一个真空腔室、多个进样阀和反应室组成。在ALD过程中,材料的前驱体交替地注入到反应室中,通过化学反应使得物质以原子或分子层的形式沉积在衬底表面上。这种逐层生长的方法可以实现较高的薄膜均匀性、控制薄膜的厚度和成分,从而得到高品质的薄膜材料。该系统具有以下关键特点。1、具有...

  • 2023

    7-11

    1、真空室涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式,不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理,真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。2、真空获得部分在真空技术中,真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的,必须将几种泵联合使用,如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。3、真空测量部分真空系统的真空测量部分,就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样,没有一种真空计能测量整个真空范围,人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计,...

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