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双腔室超高真空磁控溅射系统

简要描述:双腔室超高真空磁控溅射系统QBT-P配备进样室及溅射腔室,溅射室配备离子刻蚀功能,腔室内配备超高真空传输,设备真空度≤3E-9Torr,基板加热900℃,可制备超导Ta/TiN/NbN/Al/Nb等薄膜

  • 产品型号:QBT-P
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-24
  • 访  问  量:1206

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详细介绍

一、双腔室超高真空磁控溅射系统核心参数:  


仪器种类:磁控溅射 

产地类别:国产  

应用领域:微电子学  

基片尺寸:4寸(可定制)  

靶材:钽  

基片温度范围:RT-900ºC  

成膜厚度均匀性:基板刻蚀均一性<3%  

极限真空:极限真空UltimatePressure<3E-9Torr  


二、磁控溅射技术原理:  

在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后,并不直接飞向阳极,而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量,使之电离而本身变成低能电子。这些低能电子最终沿磁力线漂移到阴极附近的辅助阳极而被吸收,避免高能电子对极板的强烈轰击,消除了二级溅射中极板被轰击加热和被电子辐照引起的损伤,体现出磁控溅射中极板“低温"的特点。由于外加磁场的存在,电子的复杂运动增加了电离率,实现了高速溅射。  


三、双腔室超高真空磁控溅射系统技术特点:  

成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好 


四、售后服务:  

保修期:1年  

是否可延长保修期:否  

现场技术咨询:有  

免费培训:1.设备出厂前,提供至少2人一周的设备原厂培训。2.设备在现场完成安装调试  

免费仪器保养:有需要可安排  

保内维修承诺:保修期内(除天灾和人为损害外)部件、元件费用、出差费用均由我司承担  

报修承诺:质保期内出现故障时我司将及时响应,并在8小时内派技术人员到现场解决故障;  


五、技术参数:  

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六、工艺展示:

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