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双腔室超高真空磁控溅射系统QBT-P配备进样室及溅射腔室，溅射室配备离子刻蚀功能，腔室内配备超高真空传输，设备真空度≤3E-9Torr，基板加热900℃，可制备超导Ta/TiN/NbN/Al/Nb等薄膜

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超高真空镀膜设备系统专业制备约瑟夫森结制备，可精确生长所需的金属层和氧化绝缘层，确保高性能制备及高成品率。

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磁控溅射镀膜机厂家在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后，并不直接飞向阳极，而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量，使之电离而本身变成低能电子。

双腔室高真空等离子体PEALD系统是对ALD技术的扩展，通过等离子体的引入，产生大量活性自由基，增强了前驱体物质的反应活性，从而拓展了ALD对前驱源的选择范围和应用要求，缩短了反应周期的时间，同时也降低了对样品沉积温度的要求，可以实现低温甚至常温沉积，特别适合于对温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积。