双腔室超高真空磁控溅射系统QBT-P配备进样室及溅射腔室，溅射室配备离子刻蚀功能，腔室内配备超高真空传输，设备真空度≤3E-9Torr，基板加热900℃，可制备超导Ta/TiN/NbN/Al/Nb等薄膜

磁控溅射镀膜机厂家在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后，并不直接飞向阳极，而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量，使之电离而本身变成低能电子。

双腔室超高真空双磁控测射系统在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后，并不直接飞向阳极，而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量，使之电离而本身变成低能电子。