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厦门韫茂科技有限公司成立于2018年,由硅谷海归团队创立,核心成员拥有超20年薄膜沉积工艺及设备开发产业化经验,2021年入选高新技术企业,2022年入选厦门专精特新技术企业,是一家以纳米级薄膜沉积工艺技术为核心的多领域全栈式薄膜沉积方案供应商,为客户提供全面的技术解决方案以及先进的纳米材料薄膜沉积装备,针对先进制造国产化的痛点,开发自主设备。

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  • 分子层沉积技术是一种薄膜沉积方法,它通过逐层控制化学反应来精确控制薄膜的生长。在半导体工业中,已经成为制造集成电路的关键工艺之一,并展现出广阔的应用前景。半导体工业对薄膜沉积技术的要求极为严格,因为薄膜的性质直接影响到半导体器件的性能和寿命。之所以在这一领域受到重视,原因在于它具有以下几个优点:1.厚度控制:可以精确地控制薄膜的原子层厚度,这对于制造纳米尺度的半导体器件尤其重要。2.表面覆盖:可以很好地覆盖复杂形状的基材表面,这对于形成均匀的薄膜是至关重要的。3.温度适应性:...
  • 电子束蒸发镀膜是一种常用的表面涂层技术,它利用电子束加热材料至高温,使其蒸发并形成蒸汽,然后这些蒸汽会在冷却的过程中沉积在基材表面形成薄膜。这种技术在材料科学、微纳加工、光学和电子学等领域有广泛应用。物理特性:1.高真空环境:过程通常在高真空环境中进行,以避免蒸汽在到达基材之前与空气中的分子发生不必要的化学反应。2.高温蒸发:被电子束击中的材料会瞬间加热至较高温度,足以使其蒸发形成蒸汽。3.蒸发速率:电子束的功率密度和材料的热物理性质决定了蒸发速率,进而影响镀膜的厚度和均匀性...
  • 磁控溅射镀膜机由于其优良的性能,如高沉积速率、良好的薄膜质量以及能够在复杂形状的基材上沉积薄膜等,被广泛应用于各种工业领域。然而,如何选择目标材料并优化工艺以提高镀膜效率及质量,仍是一个需要深入研究的问题。一、目标材料的选择在选择目标材料时,需要考虑材料的物理化学性质、稳定性、附着性等多个因素。一些常用的磁控溅射镀膜材料包括金、银、铜、铝、钛、镍等金属及其合金。对于不同的应用场景,需要选择不同的材料。例如,金和银由于其优良的导电性和稳定性,常常被用于电子工业;而钛和镍由于其良...

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  • 高效能磁控溅射镀膜机是现代薄膜制备技术的重要工具,其技术细节和应用案例广泛且深入。以下是对其技术细节和应用案例的简要介绍:一、技术细节靶材与基片的处理:为确保溅射效果,靶材背面和溅射靶表面的结合经过特殊处理,以减少接触电阻,防止靶材发热升温,确保镀膜质量。调整灵活性:基片和靶材之间的距离以及磁控溅射靶头的角度均可调整,以适应不同靶材的成膜工艺要求,并优化镀膜的均匀性。一体化柜式结构:设备采用一体化柜式结构,占地面积小,且操作安全性高。先进的控制系统:采用计算机+PLC两级控制...
  • 磁控溅射镀膜机作为一种先进的表面处理技术,具有显著的优势,同时也存在一些劣势。以下是针对其优势和劣势的详细分析:优势:基板低温性:相对于二级溅射和热蒸发来说,磁控溅射加热少,有利于实现织物的上溅射。高沉积率:在沉积大部分的金属薄膜,尤其是高熔点的金属和氧化物薄膜时,如溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜,具有很高的沉积率。环保工艺:磁控溅射镀膜法生产效率高,且没有环境污染,相较于传统的湿法电镀具有明显优势。涂层牢固性好:溅射薄膜与基板有着的附着力,机械强度也得到了改...
  • 桌面式原子层沉积系统是一种紧凑型、用户友好的薄膜沉积设备,它在科学研究和工业应用中提供了一种高效且精确的涂覆解决方案。该系统的设计旨在提供实验室级别的薄膜沉积能力,同时占用的空间较小。它们通常配备有直观的用户界面,如触摸屏或计算机软件,使得用户能够轻松进行设备的操作和参数设置。系统的操作流程往往被简化,以确保即使是没有专业技能的用户也能快速学会如何使用。简易操作主要体现在以下几个方面:1.直观的用户界面:图形化界面使得操作者能够快速理解和设置各种沉积参数。2.自动化过程:系统...

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