全国服务咨询热线:

18396591470

当前位置:首页  >  新闻中心  >  超高真空镀膜设备的特点和广泛的应用

超高真空镀膜设备的特点和广泛的应用

更新时间:2023-07-04      点击次数:207
   超高真空镀膜设备是一种先进的技术装备,用于在材料表面形成薄膜。它具有广泛的应用领域,包括光学、电子、航空航天等行业。
 
  超高真空镀膜设备的工作原理基于真空环境下的物理气相沉积原理。它通常由真空腔体、加热源、镀膜源和控制系统等组成。首先,将待镀物放置在真空腔体中,通过抽取内部空气实现超高真空环境的建立。然后,加热源提供热能,使镀膜源中的材料升温并蒸发。蒸发的材料沉积在待镀物的表面,形成均匀且致密的薄膜。
 
  具有许多特点:
  超高真空环境可消除气体和杂质对薄膜质量的影响,确保薄膜的纯净性。
  设备能够精确控制薄膜的厚度和成分,以满足不同应用需求。
  超高真空环境还可以提高薄膜的附着力和耐久性。
 
  在各个领域有广泛的应用。
  在光学行业,它常用于制作镜片、透镜和反射镜等光学元件,以提高光学性能和抗反射能力。
 
  在电子行业,可用于制备电子元件、显示器和太阳能电池等,以改善导电性和耐腐蚀性。
 
  它还被应用于航空航天领域,用于制造航空发动机叶片和航天器外壳等,以提高耐高温和防腐蚀性能。
 
  超高真空镀膜设备是一种关键的技术装备,通过物理气相沉积原理为材料表面形成薄膜。它具有真空环境下的纯净性、精确控制和高附着力等特点,被广泛应用于光学、电子、航空航天等领域。

电子邮箱:su.zhipeng@ym-qbt.com

公司地址:厦门市集美区集美北大道1068-6号安仁产业园

业务咨询微信