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PEALD的优点和组成是怎样的?

更新时间:2023-06-11      点击次数:237
   双腔室高真空等离子体PEALD是一种薄膜沉积技术,也被称为迭层沉积技术。该技术可以在高真空环境下制备非常均匀、致密和一致的几纳米厚度的薄膜,这些薄膜通常用于微电子和光学应用中。
 
  PEALD技术具有多种优点。
  该技术可以在非常低的温度下进行,因此可以在温度敏感的衬底上进行薄膜沉积。
 
  由于该技术可以在高真空环境下进行,因此可以避免氧化或其他污染物质对沉积过程的干扰。
 
  该技术具有非常高的控制性,可以精确控制每个原子层的沉积,从而实现高度一致的薄膜。
 
  PEALD系统通常由两个独立的反应腔室组成,一个为前驱体腔室,另一个为等离子体腔室。前驱体腔室用于存储和蒸发前驱体,而等离子体腔室用于产生等离子体并进行沉积。在双腔室系统中,前驱体和反应气体在两个独立的腔室中分别引入,然后进行沉积反应。
 
  在该技术中,前驱体和反应气体通过双腔室系统被引入等离子体腔室中,然后被加热至高温以激活化学反应。等离子体会将前驱体转化为气相中的活性物种,并使其与衬底表面反应形成一层非常致密的原子层。然后,反应气体被引入以清除未反应的前驱体和副产物,从而形成下一层原子层。这个过程可以不断重复,直到需要的薄膜厚度达到为止。
 
  该技术的应用非常广泛,包括制造微电子器件、光学元件、传感器和生物医学器械。
 
  在微电子领域,经常用于制造高质量的绝缘层、金属闸极和导电氧化物。
 
  在光学领域,则被用于制备光学薄膜、透镜和反射镜。
 
  总的来说,双腔室高真空等离子体PEALD技术是一种非常有前途的薄膜沉积技术。该技术可以在非常低的温度下进行,具有高度的控制性和均匀性,因此被广泛应用于微电子、光学和生物医学等领域。

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