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介绍ALD设备的原理、特点和应用

更新时间:2023-04-26      点击次数:183
   双腔室高真空等离子体ALD设备是一种用于制备精密材料的先进设备。本文将介绍该设备的原理、特点和应用。
 
  一、原理
  双腔室高真空等离子体ALD设备采用化学气相沉积技术,在真空条件下进行材料制备。其基本原理是利用两个反应腔室,分别进行前驱体分步注入和表面反应。在每个循环中,反应腔1中的前驱体与衬底表面发生反应形成单层材料,然后将剩余的前驱体和反应产物通过惰性气体输送到反应腔2中,进行下一步反应,将结果连续沉积在衬底表面上。
 
  二、特点
  1.原子级控制能力:可以实现对各种单质、化合物和纳米复合材料的原子级控制,具有高度可定制化的能力。
 
  2.多功能性:该设备可以在多种气氛下操作,并且可以使用多种不同的前驱体和反应气体组合,以满足不同种类材料的制备需求。
 
  3.高质量薄膜:可以制备出高质量、高纯度的薄膜,在微观和宏观尺度上均具有一致的结构性能。
 
  4.自动化控制:该设备通过计算机控制系统实现自动化操作,可实现高精准度、高效率的控制。
 
  三、应用
  广泛应用于半导体、光电、磁性材料、生物医学、能源等领域。例如,它可以用于制备纳米缩放电路、高电容电介质材料、催化剂载体、金属薄膜、氧化物薄膜、非晶态合金材料等。此外,该设备还可用于制备生物传感器和药物输送系统等生物医学应用材料。
 
  总之,双腔室高真空等离子体ALD设备是一种重要的精密材料制备设备。其原理简单、使用方便、制备材料的质量稳定性高,并且具有广泛的应用前景。

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